氮化硅壓力燒結爐主要用于反應燒結碳化硅、氮化硅結合碳化硅的真空燒結行業(yè)。被廣泛應用于軍工、衛(wèi)生及建筑陶瓷、航空航天、冶金、化工、機械、汽車等領域。
氮化硅壓力燒結爐主要由爐體、真空機組、加熱系統、加壓系統、冷卻系統、電器控制等部分組成。 爐體部分由爐蓋、爐體、爐底組成,爐蓋、爐體和爐底均為雙層水冷結構,內通冷卻水,保證真空爐在加熱時,逃逸出來的熱量不致爐壁溫度過高。
真空機組由真空泵,擋板閥、放氣閥以及真空測量裝置組成。液壓系統主要由上橫梁、底座、立柱、油站、油缸、上下壓頭、壓力傳感器等組成。
加熱系統由引出電極、發(fā)熱體、隔熱屏、連接導線等組成。加熱系統由連接導線從降壓變壓器的輸出端連接到低壓電源,再經引出電極與發(fā)熱體連接。隔熱屏固定在爐體內,與發(fā)熱體保持一定距離,對發(fā)熱體與爐體之間進行隔離,用于對工作區(qū)進行保溫。
特點:
1、高的溫度均勻性和熱效率;
2、多區(qū)獨立控溫 、真空分壓功能;
3、采用特殊的爐膽結構和加熱器布置,爐溫均勻性好;
4、全密閉馬弗,密封效果好,抗污染能力強;
5、多種冷凝捕集方式減少機組污染;
6、氮氣吹掃系統絕緣更好,脫脂更*;
7、可具備真空燒結、壓力燒結、負壓脫脂燒結等功能。